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詳細介紹
| 品牌 | 中圖儀器 | 產地 | 國產 |
|---|---|---|---|
| 加工定制 | 否 |
中圖儀器WD4000晶圓膜厚測量機——非接觸+三維微納形貌一體測量,賦能超精密加工檢測。

核心價值:1臺設備搞定厚度、三維形貌、粗糙度全參數測量,告別多設備繁瑣配合,兼顧高精度與高效率,適配多行業超精密檢測需求。
1、非接觸測量:避免劃傷碳化硅、藍寶石、硅等精密工件表面,保護待測物完整性。
2、一體集成設計:無需多臺設備切換,同步完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度及三維形貌測量,節省場地與投入成本。
1、高精度測量,數據可靠
(1)光譜共焦對射技術+白光干涉技術,Z向分辨率達0.1nm,亞納米級局部高度測量,滿足納米到微米級工件檢測需求。
(2)支持SEMI/ISO/ASME/EUR/GBT四大標準300余種參數評價,測量結果可追溯。
2、大行程高速,適配多規格工件
(1)400x400x75mm大行程龍門結構,最大移動速度500mm/s,檢測效率翻倍。
(2)兼容最大12寸晶圓,搭配靜電放電涂層真空吸盤,適配光滑/粗糙、低/高反射率等多種表面工件。
3、穩定抗干擾,操作無憂
(1)花崗巖基座+隔振設計,抵御地面與聲波振動,測量重復性優異。
(2)雙重防撞+電動物鏡切換+XYZ操縱手柄,簡化操作流程,降低誤操作風險,減少培訓成本。
4、智能自動化,適配工業流水線
(1)Mapping跟隨技術+機器視覺Mark點定位,支持多點、線、面自動測量,CNC模式兼容掃碼槍輸入。
(2)虛擬夾具擺正樣品,可實現多點形貌連續自動化檢測,適配批量生產場景。
1、全功能測量與分析
(1)覆蓋厚度、三維形貌、粗糙度、幾何輪廓等核心測量需求,支持臺階高、角度、曲率等特征量測及形位公差評定。
(2)內置五大分析模塊,含ISO標準全參數粗糙度分析、孔洞體積統計、頻率分析等,滿足深度檢測需求。
2、高效數據管理
(1)集中管理測量記錄,支持按工件型號、檢測日期、識別碼等多維度查詢,追溯便捷。
(2)支持TXT報表導入待測點位,無需手動錄入,提升檢測效率。
3、靈活輸出與對接
(1)輸出Excel/Word/TXT/SPC報表,附帶Mapping圖、控制圖及CA/PPK/CPK等統計值,滿足質量管控需求。
(2)兼容SECS/MES傳輸,支持定制遠程數據對接,無縫融入工廠現有生產系統。

WD4000晶圓膜厚測量機可用于襯底制造、晶圓制造、封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及精密配件、光學加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工領域。
| 品牌 | CHOTEST中圖儀器 |
| 型號 | WD4000系列 |
| 測量參數 | 厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等 |
| 可測材料 | 砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等 |
| 厚度和翹曲度測量系統 | |
| 可測材料 | 砷化鎵 ;氮化鎵 ;磷化 鎵;鍺;磷化銦;鈮酸鋰;藍寶石;硅 ;碳化硅 ;玻璃等 |
| 測量范圍 | 150μm~2000μm |
| 掃描方式 | Fullmap面掃、米字、自由多點 |
| 測量參數 | 厚度、TTV(總體厚度變 化)、LTV、BOW、WARP、平面度、線粗糙度 |
| 三維顯微形貌測量系統 | |
| 測量原理 | 白光干涉 |
| 干涉物鏡 | 10X(2.5X、5X、20X、50X,可選多個) |
| 可測樣品反射率 | 0.05%~100 |
| 粗糙度RMS重復性 | 0.005nm |
| 測量參數 | 顯微形貌 、線/面粗糙度、空間頻率等三大類300余種參數 |
| 膜厚測量系統 | |
| 測量范圍 | 90um(n= 1.5) |
| 景深 | 1200um |
| 最小可測厚度 | 0.4um |
| 紅外干涉測量系統 | |
| 光源 | SLED |
| 測量范圍 | 37-1850um |
| 晶圓尺寸 | 4"、6"、8"、12" |
| 晶圓載臺 | 防靜電鏤空真空吸盤載臺 |
| X/Y/Z工作臺行程 | 400mm/400mm/75mm |
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